1.電流密度:有一定的限度內(nèi),電流密度增加,該膜增加的生長(zhǎng)速率,縮短氧化時(shí)間,孔的膜生成,易著色,和增加的硬度和耐磨損性;高電流密度下,影響因焦耳熱,從而使溶液的外部部分和所述過(guò)熱溫度,該膜增加溶解速率,且有可能燒毀份;電流密度太低時(shí),膜的生長(zhǎng)速度緩慢,但所得到的膜是更密集,硬度和耐磨損性下降。
2.氧化過(guò)程中時(shí)刻:氧化技術(shù)時(shí)刻的挑選,取決于不同電解液進(jìn)行濃度,溫度,陽(yáng)好電流通過(guò)密度和所需求的膜厚。
3.硫酸濃度:一般選擇15%~20%。 隨著濃度的增加,膜的溶解速率增大,膜的生長(zhǎng)速率降低,膜的孔隙率高,吸附力強(qiáng),賦予彈性,染色性能好(易染深色),但硬度和耐磨性稍差。
4.電解液溫度: 電解液溫度對(duì)氧化膜的質(zhì)量有很大影響。 隨著溫度的升高,溶解速率增加,膜厚減小。
5.移動(dòng)攪拌攪拌:電解液可以促進(jìn)對(duì)流,密集冷卻作用,以確保溶液的溫度的均勻性,由于氧化膜的質(zhì)量加熱所得下降不形成金屬的一部分。